電子行業超純水系統是利用現在*的電子技術進行提煉純水系統，它根據原水的水質情況，對原水進行脫鹽處理，由于電子行業對于水中的離子含量要求非常高，所以我們公司的超純水系統也是選擇*的反滲透技術，搭配業內的EDI設備，混床技術，使得產生水質可達到18.25MΩ?cm，水質可符合國內外用水標準。

在大規模的集成電路超純水水質中，優先獲得關注的水質指標為：電阻率、TOC、硅、微粒、重金屬、溶解氧、堿金屬等，這類物質會溶于水中，而在集成電路芯片的制造過程中，使用的水質中所含離子成分越多，則對產品的制造工藝的影響越大，使得產品良率降低。

硅片是現代半導體行業不可或缺的基礎材料，而在硅片的生產過程中會有許多的污染物質干擾產品的質量，所以半導體器件的生產硅片需要進行嚴格的清洗，通過清洗去除掉表面的污染雜質，包括有機物和無機物等，否則微量元素的污染會導致半導體器件失效。

單硅晶體超純水設備主要作用是用于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，這些雜質有的是以原子狀態、離子狀態、薄膜形式、顆粒形式存在與硅片的表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬鉻、銅、鐵、金等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電;顆粒污染源則包括有機膠體纖維、微生物、細

半導體行業超純水設備使用的是微電腦+觸摸屏控制技術，搭配高效的自動化控制系統，有效的保障了設備的穩定性，而且*程度的節約了人力成本和維護成本，水資源的利用率得到了有效的提高，設備運行過程的可靠性高，操作簡單易懂。這款設備相較于其它同類型產品，具有更高的性價比，是值得選擇的半導體行業超純水設備